頭孢噻肟鈉研磨分散機

簡要描述：CIK頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉速高達14000rpm，剪切力強，是國內設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結構、分散盤的結構，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統，可供工業化生產24小時運行。分體式結構，通過皮帶提速，可根據調節轉速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉速，合理的剪切力不易導致產品變性失活。

產品型號： NKD2000/4

所屬分類：醫藥級研磨分散機

更新時間：2025-06-02

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頭孢噻肟鈉適應癥

適用于敏感細菌所致的肺炎及其他下呼吸道感染、尿路感染、腦膜炎、敗血癥、腹腔感染、盆腔感染、皮膚軟組織感染、生殖道感染、骨和關節感染等。頭孢噻肟可以作為小兒腦膜炎的選用藥物。

用法用量

一日2～6g，分2～3次靜脈注射或靜脈滴注；嚴重感染者每6～8小時2～3g，一日zui高劑量不超過12g。治療無并發癥的肺炎鏈球菌肺炎或急性尿路感染，每12小時1g。
新生兒日齡小于等于7日者每12小時50mg/kg，出生大于7日者，每8小時50mg/kg。治療腦膜炎患者劑量可增至每6小時75mg/kg，均以靜脈給藥。
嚴重腎功能減退病人應用本品時須適當減量。血清肌酐值超過424μmol/L(4.8mg)或肌酐清除率低于20ml/分時，本品的維持量應減半；血清肌酐超過751μmol/L(8.5mg)時，維持量為正常量的1/4。需血液透析者一日0.5～2g。但在透析后應加用1次劑量。

     CIK頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉速高達14000rpm，剪切力強，是國內設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結構、分散盤的結構，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統，可供工業化生產24小時運行。分體式結構，通過皮帶提速，可根據調節轉速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉速，合理的剪切力不易導致產品變性失活。

【分散機的結構及特點】

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

       第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

       NKD2000系列研磨分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

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